ASML POVEČUJE MOČ EUV SKENERJEV NA 1000 W – PRODUKTIVNOST BI LAHKO ZRASLA ZA 50 %, KAR JE OGROMNA PREDNOST

Zaradi zmogljivejših proizvodnih naprav se lahko bistveno poveča število silicijevih rezin, osvetljenih na uro, kar pomaga znižati stroške izdelave čipov, tako da bi bil lahko posamezen čip cenejši.
J.o.k.e.r
J.o.k.e.r
25. feb. 2026, 08:46
ASML povečuje moč EUV skenerjev na 1000 W – produktivnost bi lahko zrasla za 50 %, kar je ogromna prednost

Razvojna ekipa podjetja ASML že dolgo dela na tem, da bi močno povečala zmogljivost EUV skenerjev in s tem število silicijevih rezin, ki jih je mogoče osvetliti v eni uri, zaradi česar se poveča tudi število čipov, ki jih je mogoče izdelati. Sedanji sistemi EUV, ki EUV sevanje ustvarjajo z lasersko svetlobo in mikroskopsko majhnimi kapljicami staljenega kositra, običajno delujejo z močjo okoli 600 W, valovna dolžina pa je 13,5 nm.

Po pisanju Reutersa v podjetju že vneto razvijajo tudi EUV skenerje z močjo 1000 W, ki bi prinesli ogromen napredek pri izkoristku in produktivnosti: če bo šlo vse po načrtih, bi do konca desetletja lahko dosegli tudi 50-odstotno izboljšanje. Z EUV skenerji zdaj v eni uri osvetlijo približno 220 silicijevih rezin, zahvaljujoč različicam z močjo 1000 W pa bo v enakem času mogoče osvetliti že 330 rezin, kar je res 50-odstotna izboljšava. Na eni silicijevi rezini je lahko več deset ali celo več sto čipov, zato s 50 % več rezin na uro v bistvu narašča tudi število čipov, se pravi, da se proizvodni strošek na čip zmanjša, kar je vsekakor prednost.

Odpri galerijo

V osnovi vir svetlobe EUV, ki se uporablja za osvetljevanje, torej za vzorčenje silicijeve rezine, nastane s srečanjem laserske svetlobe CO2 in drobnih kapljic staljenega kositra, valovna dolžina svetlobe pa je 13,5 nm. Svetlobo s sistemom posebnih leč zgostijo in usmerijo na želeno območje, same leče pa izdeluje podjetje Carl Zeiss AG. Da bi moč s sedanjih 600 W lahko povečali na 1000 W, je treba število kapljic staljenega kositra podvojiti, kar pomeni približno 100.000 kapljic na sekundo, poleg tega pa je treba razširiti tudi dosedanji laserski sistem, tako da sistem namesto enega dela z dvema impulzoma. Po načrtih ASML se lahko moč sčasoma poveča celo na 1500 ali 2000 W, kar bo prineslo dodatne prednosti.

Razvoj podjetja ASML ima velik pomen, saj vsi veliki pogodbeni proizvajalci polprevodnikov uporabljajo naprave nizozemskega podjetja, od njih pa skušajo imeti koristi tudi kitajska podjetja, čeprav uradno nimajo več dostopa do najsodobnejših dosežkov. Veliki proizvajalci polprevodnikov, kot sta Intel in TSMC, so močno odvisni od naprav nizozemskega podjetja ASML. Da bi ASML ohranil vodilni položaj na trgu, njegovih najnaprednejših izdelkov ni dovoljeno izvažati na Kitajsko, vendar kitajskih proizvajalcev polprevodnikov to, kot kaže, ne ovira pri gradnji sodobnih proizvodnih naprav s starejšimi stroji ali z ne povsem legalno pridobljenimi deli.

Huawei je pri tem v ospredju, saj ravno gradi domačo oskrbovalno verigo za umetno inteligenco, del katere je tudi tovarna polprevodnikov, zgrajena v Guanlanu. Slednja izdeluje Huaweiove čipe v 7-nm tehnologiji, razvoj pa se seveda ne ustavlja pri 7 nm, Kitajci želijo prodreti tudi v segment naprav EUV, po prejšnjih informacijah pa na tem področju ne stojijo slabo – na veliko žalost Američanov.

Naročnina na newsletter
Z naročnino sprejemam pogoje uporabe in izjavo o varstvu podatkov.

0 komentarjev

Če želite napisati komentar, najprej Vpiši se!

Za ta članek še ni komentarjev

Pomagajte drugim, povejte nam, kaj mislite o članku.
Nazaj na vrh strani