Kitajska polprevodniška industrija nedvomno napreduje in dosega resne rezultate, v ozadju pa se skriva številne težave, zaradi katerih akterji v polprevodniški industriji nimajo lahkega položaja, kar zadeva razvoj naslednje generacije. Na to so opozorili najbolj usposobljeni vodilni kitajski polprevodniški strokovnjaki, ki so poudarili: kitajski ustreznici proizvodne opreme, ki jo razvija nizozemski litografski velikan ASML, nista dovolj konkurenčni, kar gre pripisati temu, da je kitajska industrija proizvodnje čipov preveč majhna, razdrobljena in šibka, da bi lahko samostojno premagala težave, ki jih povzročajo ameriške izvozne omejitve. Podobno vidijo stvar soustanovitelj SMIC Wang Yangyuan, vodstvo podjetja YMTC, ki je pomemben igralec na trgu pomnilnika, vodstvo podjetja Naura, ki razvija opremo za proizvodnjo čipov, in vodstvo podjetja Epyrean, ki izdeluje programsko opremo za načrtovanje čipov.
Po mnenju strokovnjakov izvozne omejitve, ki jih je uvedla vlada Združenih držav Amerike, dušijo kitajsko polprevodniško industrijo na treh glavnih področjih, kar zadeva razvojne možnosti: v segmentu programske opreme za avtomatizacijo elektronskega načrtovanja (EDA), pri proizvodnji silicijevih rezin in tudi v industriji proizvodne opreme – na slednjem področju težave povzroča predvsem pomanjkanje skenerjev z litografijo EUV, brez katerih izdelava čipov z velikostjo struktur pod 7 nm preprosto ni mogoča.
Strokovnjaki so v odprtem pismu, ki opozarja akterje v industriji, izrazili jasno stališče: industrija mora opustiti iluzije in se pripraviti na boj, dodali pa so tudi, da precej razdrobljeno javno financiranje porazdeljuje sredstva med preveč tekmujočih si prizadevanj, ne da bi dosegalo rezultate.
Na Kitajskem se ravno pripravljajo na napoved 15. petletnega načrta, o katerem se lahko to ali ono pokaže že v prihodnjem tednu. V okviru načrta za obdobje od 2026 do 2030 bodo veliko pozornosti namenili pomoči pri litografskem razvoju, poseben poudarek pa bo morda dobil tudi razvoj programske opreme EDA. V okviru programa Big Fund III so za pomoč pri razvoju polprevodniške industrije namenili približno 47,5 milijarde dolarjev, da bi nastale kitajske ustreznice opreme ASML in Synopsys.
Na področju litografije je zaostanek velikanski, saj je trenutno najnaprednejši kitajski litografski skener DUV, ki ga je razvilo podjetje Yuliangsheng, približno na ravni ASML Twinscan NXT:1950i, ta pa je naprava z velikostjo struktur razreda 32 nm, izdelana še leta 2008. Tudi če bi SMIC to napravo do konca leta 2027 lahko vključil v proizvodni proces z velikostjo struktur 28 nm, bi za uporabo struktur pod 10 nm potrebovali nove skenerje, to pa bi zahtevalo več let razvojnega dela. Čeprav prototip skenerja EUV že obstaja, bi bilo treba za komercialno uporabo naprave najprej doseči stabilen izkoristek, kar ni preprost proces – podjetju ASML je to pri lastnem prototipu vzelo skoraj dve desetletji dela.
ASML pa ni imel na voljo le lastne baze znanja, temveč tudi precej razvejano dobaviteljsko verigo, ki jo sestavlja več kot 5000 podizvajalcev, in uporabljal je lahko tudi podatke več desetletij, ki povzemajo izkušnje z množično proizvodnjo. Teh okoliščin Kitajci ne morejo zagotoviti, četudi poskušajo tehnologije in metode razkriti z obratnim inženiringom že izdelanih naprav.
Ne smemo pozabiti, da je kitajska industrija na nekaterih področjih zelo uspešna, Naura na primer sodi po prihodkih med 10 največjih svetovnih proizvajalcev v polprevodniški industriji, na področju litografije pa kitajska industrija še vedno močno zaostaja, razdrobljen sistem podpore pa stanje le poslabšuje.
